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鋨鍍膜機(jī)HPC-20設(shè)備安裝及工作空間教導(dǎo)
鋨鍍膜機(jī)是一種將四氧化俄晶體升華的鋨氣體充滿腔室,使用等離子體電離鋨,并對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜的裝置。鋨等離子鍍膜機(jī)具有優(yōu)異的包覆性,而且由于是非晶態(tài),因此沒有顆粒狀,顆粒非常細(xì)小,使得在FE-SEM等電子顯微鏡觀察中可以進(jìn)行高清晰度、高倍率的觀察。
該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置。配備觸摸屏和定序器控制,任何人都可以輕松地全自動(dòng)在樣品上進(jìn)行導(dǎo)電膜沉積。
用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設(shè)備。由于其細(xì)小的粒徑和出色的環(huán)繞特性,它對(duì)于高倍率觀察目的和復(fù)雜形狀的樣品非常有效。超薄 Os 導(dǎo)電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析。
采用空心陰極樣品臺(tái),采用低壓放電進(jìn)行鍍膜,對(duì)樣品損傷小。由于空心陰極內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生均勻的高密度等離子體,因此無論樣品的高度如何,放置在圓柱體內(nèi)部的樣品表面都會(huì)形成厚度均勻的Os膜。
由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極,因此消耗較低,并且未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附和去除,抑制了有害氣體釋放到大氣中。
該產(chǎn)品是一套裝置,包括裝置、旋轉(zhuǎn)泵、SUS 軟管、高密度活性炭捕集器和和光純藥的四氧化俄安瓿(0.5 g)。
需要親臨現(xiàn)場講解安裝和操作。
此外,該設(shè)備在處理鋨時(shí)需要定期維護(hù)。詳情請(qǐng)聯(lián)系我們。
在排列有各種設(shè)備的實(shí)驗(yàn)室和其他設(shè)施中,設(shè)備占用的面積有時(shí)會(huì)成為一個(gè)大問題。因此,我們針對(duì)每種安裝情況編制了布局參考圖。
此外,在 HPC-20 的設(shè)備開發(fā)階段,我們考慮了“可以放置物體的工作空間"的概念。工作時(shí)擁有平坦的表面非常方便。
裝置本體后面需要有泵和排氣管的安裝空間。
安裝尺寸
寬度:470mm,深度:350mm,泵安裝需要約250mm的空間。
桌面尺寸最好是深度600mm。
設(shè)備后面安裝排氣管和電源線需要約 100 mm 的空間,設(shè)備旁邊安裝泵需要約 210 mm 的空間。
需要安裝尺寸
為寬680mm、深450mm的空間。泵可以安裝在設(shè)備的左側(cè)或右側(cè)。
這是將安裝在桌面上的設(shè)備連接到安裝在地板上的旋轉(zhuǎn)泵的示例。
真空排氣管長1m。由于它是柔性管,因此會(huì)因抽真空而收縮約10%。如果桌子高度為750mm或以上,排氣管可能無法到達(dá),因此請(qǐng)?zhí)崆坝镁沓邫z查安裝高度。如果必須將旋轉(zhuǎn)泵放置在難以到達(dá)的位置,請(qǐng)安裝額外的排氣管。但由于降低排氣效率的影響,最大長度被限制在2m。
如果桌子背面靠墻,則可以將旋轉(zhuǎn)泵放置在設(shè)備左側(cè)的地板上。
我們建議安裝主機(jī)的工作臺(tái)或桌子的高度在650mm至750mm之間。
旋轉(zhuǎn)泵的安裝空間約為210mm寬、350mm深。
在設(shè)備開發(fā)階段,我們考慮確保“可以放置物品的工作空間"。因此,我們能夠在鋨室前面、鋨室上方的蓋子以及真空室周圍創(chuàng)建一個(gè)平坦的空間。
準(zhǔn)備樣品需要一些精密的工具。 SEM樣品架、鑷子、碳帶、竹簽等特別是在小型實(shí)驗(yàn)室中,工作空間是有限的。
我們希望它能夠很好地用作工作臺(tái)或工具存儲(chǔ)。
岸田化學(xué)
四氧化俄安瓿
(1g)
和光純藥
四氧化俄安瓿
(0.5g)
鋨廢液收集服務(wù)
收集單位:
1L、5L、20L
*液體廢物只能由我們的用戶接受。
*對(duì)于HPC-20,在定期維護(hù)期間,我們將更換閥門、傳感器、填料、RP油、活性炭過濾器,并清潔腔室內(nèi)部。
*如果您想自行維護(hù),也可以購買必要的零件。
*由于產(chǎn)生廢液和廢物,一般將設(shè)備寄回我公司進(jìn)行維護(hù)。我們將免費(fèi)處理維護(hù)期間的廢液。
*我們還可以承接腔室部件的清潔工作。
*我們還提供廢液收集服務(wù)。